納米尺度3D光學(xué)干涉測(cè)量系統(tǒng)VS1800應(yīng)用光干涉現(xiàn)象，對(duì)微細(xì)的表面形貌進(jìn)行測(cè)量，可實(shí)現(xiàn)高性能薄膜、半導(dǎo)體、汽車零配件、顯示器等行業(yè)所要求的高精度測(cè)量。而且還能以無(wú)損傷方式進(jìn)行多層膜的層結(jié)構(gòu)以及層內(nèi)部的異物測(cè)量。

納米尺度3D光學(xué)干涉測(cè)量系統(tǒng)VS1800應(yīng)用光干涉現(xiàn)象，對(duì)微細(xì)的表面形貌進(jìn)行測(cè)量，可實(shí)現(xiàn)高性能薄膜、半導(dǎo)體、汽車零配件、顯示器等行業(yè)所要求的高精度測(cè)量。而且還能以無(wú)損傷方式進(jìn)行多層膜的層結(jié)構(gòu)以及層內(nèi)部的異物測(cè)量。

納米尺度3D光學(xué)干涉測(cè)量系統(tǒng)VS1800：測(cè)量表面形貌的新標(biāo)準(zhǔn)

隨著材料不斷趨向平坦化、薄膜化及結(jié)構(gòu)的微細(xì)化，人們開始要求比傳統(tǒng)的普通SPM（掃描探針顯微鏡）、觸針式粗糙度測(cè)量?jī)x及激光顯微鏡等產(chǎn)品更高的測(cè)量精度。相比較利用光干涉原理的白光干涉掃描顯微鏡，納米尺度3D光學(xué)干涉測(cè)量系統(tǒng)VS1800，使用更方便，測(cè)量精度跟高，測(cè)量范圍更大。此外，傳統(tǒng)的采用線粗的測(cè)量方式仍存在“測(cè)量位置導(dǎo)致的結(jié)果偏差"和“掃描方向?qū)е碌慕Y(jié)果偏差"等重大課題。VS1800的解決對(duì)策是通過參照國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)ISO25178規(guī)定的表面形貌評(píng)估方法來(lái)計(jì)算參數(shù)，建立測(cè)量表面形貌的新標(biāo)準(zhǔn)，從而受到了各界的關(guān)注。

原子力顯微鏡的納米尺度3D探針測(cè)量系統(tǒng)AFM5500M同樣可實(shí)現(xiàn)高度的分辨率為0.1nm以下，與此相比，納米尺度3D光學(xué)干涉測(cè)量系統(tǒng)VS1800的一大特點(diǎn)在于面內(nèi)方向的測(cè)量范圍更大。發(fā)揮兩種測(cè)量系統(tǒng)各自的優(yōu)點(diǎn)，根據(jù)需求選擇合適的測(cè)量系統(tǒng)有利于生產(chǎn)率的提高。